脱酸素または脱水素触媒

 

CAS-KR-T01-K 脱酸素または脱水素触媒は、担体として活性アルミナ、添加材料として独自のレアアース、活性基として高含有貴金属 Pd および Pt を使用して製造されており、ガス精製業界で広く使用されています。

一般的に言えば、ガス精製生産では、ガスの純度を確保するために、ガス中の微量酸素を除去する必要があります。合成ガス、石炭ガス、コークスガス中の微量酸素は後続プロセスで触媒被毒を引き起こしやすいため、微量酸素も除去する必要がありますが、当社の脱酸素・脱水素触媒は1ppmの脱酸素深度でこれを達成できました。

CAS-KR-T01-K 脱酸素または脱水素触媒は主に、工業用水の電気分解での水素と酸素の生成中、酸素による水素の除去、電解作業場、水素操作室、衛星、発電所、電池室、潜水艦などの宇宙ガス中の水素の除去、および電気化学的医療用酸素の水素の除去と精製など、酸素、空気および酸素含有雰囲気中での水素の除去と精製に使用されます。発電機。

CAS-KR-T01-K 脱酸素または脱水素触媒の写真

 

 

 

 

使用前に還元と活性化の必要がなく、水素脱酸と不活性ガス脱水素は室温で開始でき、空間速度（3〜10）×103 h-1で使用すると酸素を1ppm未満（最大0.02ppm）まで除去できます。合成ガス、石炭ガス、乾式コークスガスの脱酸素は110〜140度の条件下で開始でき、圧力は250〜140度です。 0.1MPa、空間速度は(1~4)×103h-1、残留酸素は1ppm未満です。脱水素反応は室温(80~120度が最適な操作温度)で開始でき、1.5~3.0×103h-1の反応条件下で、精製対象ガス中の水素を5ppm未満まで除去でき、最高耐熱温度は650~750度です。機械的強度は良好で、耐用年数は3年以上です。

 

 

触媒反応器の装填高さ/直径の比	1 以上
動作温度	常温～250度
空間速度	3000時間以下-1
脱酸素能力; ○2,H2浄化率	15ml以上2/g; 95%以上
脱酸素と脱水素の深さ	1.0ppm以下、50ppm以下
外観	茶色、灰色、球体 1~6mm
かさ密度	0.68±0.05g/ml
圧壊強度	60N/本以上
寿命	2～3年

 

 

純粋なガスの精製（水素、不活性ガス、窒素、その他の高純度ガスの製造など）には、通常、水素脱酸素（水素精製には水素自体があり、水素は必要ありません）が使用されます。酸素の精製はガス中の微量水素を除去する必要があります。触媒は現在脱水素剤と呼ばれており、次のような同じ原理で機能します。

合成ガス、ガス、およびコークスガスは通常、それ自体の水素と一酸化炭素を使用して脱酸します。

プロセスの使用要件:供給ガスを触媒床の上から下に通過させ、空気速度を制御し、ガス流量を徐々に増加させます。脱水素反応器を起動する前に予熱器を追加することをお勧めします。始動時に加熱して始動する必要がある場合は、触媒床の温度が明らかに上昇した後で予熱器を部分的に閉じることができます。反応によって生成された水を定期的に排出するために、反応器の後に冷却器を追加する必要があります。

 

 

1) 触媒が著しく吸水または水に浸漬した場合は、110 度で 6 時間乾燥させて再生することができます。

2) ) 触媒が灰汁で汚れている場合は、陰イオン (AC - など) または脱イオン水で数回洗浄し、乾燥して再生することができます。また、触媒上でのアンモニアの縮合は避けるべきです。

3) 触媒が油で汚染されている場合は、酸素を含むガス（または空気）で 500 ～ 550 度で 3 ～ 5 時間再生し、その後 200 度で H2 で 2 ～ 4 時間還元して再生することができます。

4) 硫化物被毒により触媒が失活した場合、空気で300～500度で4～8時間再生し、その後H2300～500度で4時間還元して再生することができます。

 

 

脱酸素剤（水素）剤は主にガスの精製、精製などのガスメーカーに使用されます。

脱酸素剤は、合成ガス、ガス、合成アンモニアやその他の化学産業のコークスガス精製作業場でも使用できます。フロートガラス産業、カラーテレビ、電子産業の生産ラインのガス精製システムでも使用されます。オレフィンの脱酸素精製、石油化学ポリエチレン、ポリプロピレンの製造などにも使用されます。ガス中の酸素含有量は0.1PPM以下であることが必要です（微量のO2が触媒と反応して合成オレフィン触媒の活性を低下させるとともに、反応系内の物質と反応して樹脂を生成​​し、合成反応触媒の細孔やパイプを閉塞してしまうため）.

 

 

 

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